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成像区外异常体对电阻率层析成像结果的影响

毛先进 鲍光淑

物探化探计算技术2000,Vol.22Issue(1):18-20,72,4.
物探化探计算技术2000,Vol.22Issue(1):18-20,72,4.

成像区外异常体对电阻率层析成像结果的影响

THE INFLUENCE OF THE SURROUNDING RESISTIVITY STRUCTURES ON RESISTIVITY TOMOGRAPHY

毛先进 1鲍光淑2

作者信息

  • 1. 云南省地震局,云南,昆明,650041
  • 2. 中南工业大学,湖南,长沙,410083
  • 折叠

摘要

关键词

成像区外异常体/电阻率层析成像/对成像结果的影响

分类

天文与地球科学

引用本文复制引用

毛先进,鲍光淑..成像区外异常体对电阻率层析成像结果的影响[J].物探化探计算技术,2000,22(1):18-20,72,4.

基金项目

获中国有色地质总局科研项目(编号:98-D-6) (编号:98-D-6)

云南省自然科学基金项目(编号:98D077M) (编号:98D077M)

云南省青年地震科学基金联合资助 ()

物探化探计算技术

OACSCDCSTPCD

1001-1749

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