液晶与显示2005，Vol.20Issue(1)：18-21,4.
退火对富硅氮化硅薄膜的结构和发光的影响
Influence of Thermal Annealing on the Structural and Optical Properties of Si-rich Silicon Nitride Films
摘要
关键词
PECVD/光致发光/Si团簇/悬键分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
王颖,申德振,张吉英,刘益春,张振中,吕有明,范希武..退火对富硅氮化硅薄膜的结构和发光的影响[J].液晶与显示,2005,20(1):18-21,4.基金项目
国家自然科学重点基金资助项目(No.60336020) （No.60336020）
"863"高技术资助项目(No.2001AA31112) （No.2001AA31112）
中科院创新工程资助项目 （）
国家自然科学基金资助项目(No.60278031, 60176003, 60376009) （No.60278031, 60176003, 60376009）
