|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|液晶与显示|薄膜晶体管阵列四次光刻工艺中光刻胶灰化工艺的研究

薄膜晶体管阵列四次光刻工艺中光刻胶灰化工艺的研究

刘翔 王章涛 崔祥彦 邓振波 王海军

液晶与显示2008，Vol.23Issue(2)：183-187,5.
✕
液晶与显示2008，Vol.23Issue(2)：183-187,5.

薄膜晶体管阵列四次光刻工艺中光刻胶灰化工艺的研究

Ashing Process of Photoresist in Four-Mask Fabrication of Thin Film Transistors

刘翔 1王章涛 2崔祥彦 2邓振波 2王海军1

作者信息

  • 1. 北京交通大学,光电子技术研究所,发光与光信息技术教育部重点实验室,北京,100044
  • 2. 北京京东方光电科技有限公司,北京,100176
  • 折叠

摘要

关键词

薄膜晶体管/四次光刻/光刻胶/灰化

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘翔,王章涛,崔祥彦,邓振波,王海军..薄膜晶体管阵列四次光刻工艺中光刻胶灰化工艺的研究[J].液晶与显示,2008,23(2):183-187,5.

基金项目

国家自然科学基金(No.90201004) （No.90201004）

液晶与显示

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2780

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文