物理学报2002，Vol.51Issue(8)：1865-1869,5.
源气体对沉积的a-C∶F∶H薄膜结构的影响
The influence of different precursor gases on the as-deposited a-C∶F∶H films
摘要
关键词
氟化非晶碳膜/电子回旋共振化学气相沉积/红外吸收光谱分类
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辛煜,宁兆元,程珊华,陆新华,江美福,许圣华,叶超,黄松,杜伟..源气体对沉积的a-C∶F∶H薄膜结构的影响[J].物理学报,2002,51(8):1865-1869,5.基金项目
江苏省自然科学基金(批准号:00KJB430001)和国家自然科学基金(批准号:10175048)资助的课题. （批准号:00KJB430001）
