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端部霍尔等离子体源沉积类金刚石膜的研究

潘永强 朱昌 弥歉 方勇

材料科学与工程学报2005,Vol.23Issue(2):188-190,3.
材料科学与工程学报2005,Vol.23Issue(2):188-190,3.

端部霍尔等离子体源沉积类金刚石膜的研究

Research on Deposition Diamond-like Carbon Films with End-hall plasma Ion Source

潘永强 1朱昌 2弥歉 1方勇1

作者信息

  • 1. 西安工业学院光电工程学院,陕西,西安,710032
  • 2. 西安电子科技大学理学院,陕西,西安,710071
  • 折叠

摘要

关键词

端部霍尔离子源/类金刚石膜/红外光谱

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

潘永强,朱昌,弥歉,方勇..端部霍尔等离子体源沉积类金刚石膜的研究[J].材料科学与工程学报,2005,23(2):188-190,3.

材料科学与工程学报

OACSCD

1673-2812

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