新型炭材料2003，Vol.18Issue(3)：191-195,5.
氧等离子体对金刚石膜的刻蚀研究
Etching of a diamond film by oxygen plasma
吕宪义 1金曾孙 1郝世强 1彭鸿雁 1曹庆忠2
作者信息
- 1. 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130023
- 2. 河南黄河实业有限公司,河南,长葛,461500
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摘要
关键词
氧等离子体/金刚石膜/刻蚀/结构特性分类
化学化工引用本文复制引用
吕宪义,金曾孙,郝世强,彭鸿雁,曹庆忠..氧等离子体对金刚石膜的刻蚀研究[J].新型炭材料,2003,18(3):191-195,5.
