LPCVD氮化硅薄膜的化学组成

葛其明刘学建黄智勇黄莉萍

材料科学与工程学报2006，Vol.24Issue(2)：192-195,4.

Chemical Composition of Silicon Nitride Thin Films Prepared by LPCVD

葛其明 ¹刘学建 ¹黄智勇 ¹黄莉萍¹

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氮化硅/薄膜/化学组成/LPCVD

通用工业技术

葛其明,刘学建,黄智勇,黄莉萍..LPCVD氮化硅薄膜的化学组成[J].材料科学与工程学报,2006,24(2):192-195,4.

上海市科技发展基金资助项目(00JC14015) （00JC14015）

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ISSN：1673-2812

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