中国机械工程2004，Vol.15Issue(3)：192-195,4.
步进扫描光刻机同步控制及硅片变形误差补偿技术研究
Study on the Synchronizing Control and Wafer Deformation Error Compensation Technology for Step Scanning Photoetching Machine
摘要
关键词
同步控制/误差补偿/硅片变形/光刻机分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
胡旭晓,台宪青,杨克己..步进扫描光刻机同步控制及硅片变形误差补偿技术研究[J].中国机械工程,2004,15(3):192-195,4.基金项目
国家863高技术研究发展计划资助项目(2002AA423110) （2002AA423110）
