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TEA CO2 激光诱发 SiH4 等离子体发光动力学研究

傅广生 董丽芳 李晓苇 韩理 张连水 吕福润

半导体学报Issue(3)：193,1.
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半导体学报Issue(3)：193,1.

TEA CO2 激光诱发 SiH4 等离子体发光动力学研究

傅广生 1董丽芳 1李晓苇 1韩理 1张连水 1吕福润1

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傅广生,董丽芳,李晓苇,韩理,张连水,吕福润..TEA CO2 激光诱发 SiH4 等离子体发光动力学研究[J].半导体学报,1990,(3):193,1.

半导体学报

OACSCD

1674-4926

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