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具有降场电极U形漂移区SOI-LDMOS的耐压特性

罗卢杨 方健 罗萍 李肇基

半导体学报2003,Vol.24Issue(2):194-197,4.
半导体学报2003,Vol.24Issue(2):194-197,4.

具有降场电极U形漂移区SOI-LDMOS的耐压特性

Breakdown Characteristics of Novel SOI-LDMOS with ReducingField Electrode and U-Type Drift Region

罗卢杨 1方健 1罗萍 1李肇基1

作者信息

  • 1. 电子科技大学IC设计中心,成都,610054
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摘要

关键词

SOI/LDMOS/RESURF

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

罗卢杨,方健,罗萍,李肇基..具有降场电极U形漂移区SOI-LDMOS的耐压特性[J].半导体学报,2003,24(2):194-197,4.

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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