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椭圆偏光法研究砷离子注入硅的损伤和退火
椭圆偏光法研究砷离子注入硅的损伤和退火
莫党
卢因诚
李旦晖
刘尚合
卢武星
半导体学报
Issue(3)：198,1.
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半导体学报
Issue(3)
：198,1.
椭圆偏光法研究砷离子注入硅的损伤和退火
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莫党,卢因诚,李旦晖,刘尚合,卢武星..椭圆偏光法研究砷离子注入硅的损伤和退火[J].半导体学报,1980,(3):198,1.
半导体学报
ISSN：
1674-4926
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