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畸变的掩模对光刻图形质量的影响

杜惊雷曾阳素黄晓阳粟敬钦郭永康崔铮

激光技术2002，Vol.26Issue(1)：20-22,3.

Effect of distortion of mask on photolithography pattern quality

杜惊雷 ¹曾阳素 ¹黄晓阳 ¹粟敬钦 ¹郭永康 ¹崔铮²

作者信息

1. 四川大学物理系,成都,610064
2. Central Microstructure Facility,Rutherford Appleton Laboratory,Chilton,Didcot,OXON,OX11 0QX,U.K.
折叠

激光直写/邻近效应/分辨力/抗蚀剂模型

信息技术与安全科学

杜惊雷,曾阳素,黄晓阳,粟敬钦,郭永康,崔铮..畸变的掩模对光刻图形质量的影响[J].激光技术,2002,26(1):20-22,3.

微细加工光学技术国家重点实验室基金、国家自然科学基金及博士点基金资助项目. （）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1001-3806

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