真空电子技术Issue(3)：20-22,26,4.
用于大功率微波器件的新型薄膜衰减材料
A New Film Microwave Attenuating Material for High Power Microwave Devices
张永清 1丁耀根2
作者信息
- 1. 中国科学院电子学研究所,微波器件中心,北京,100080
- 2. 太原理工大学,材料科学与工程学院,山西,太原,030024
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摘要
关键词
微波/衰减材料/FeSiAl/薄膜分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
张永清,丁耀根..用于大功率微波器件的新型薄膜衰减材料[J].真空电子技术,2004,(3):20-22,26,4.
