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化学还原法向二氧化硅人工欧泊中填充Se

许静 谢凯 龙永福 肖加余

人工晶体学报2006,Vol.35Issue(1):20-23,4.
人工晶体学报2006,Vol.35Issue(1):20-23,4.

化学还原法向二氧化硅人工欧泊中填充Se

Infiltration of Se into Artificial Opal by Chemical Reduction

许静 1谢凯 1龙永福 1肖加余1

作者信息

  • 1. 国防科技大学材料工程与应用化学系,长沙,410073
  • 折叠

摘要

关键词

纳米硒/光子晶体/溶剂蒸发法/化学还原法

分类

化学化工

引用本文复制引用

许静,谢凯,龙永福,肖加余..化学还原法向二氧化硅人工欧泊中填充Se[J].人工晶体学报,2006,35(1):20-23,4.

基金项目

国家部委基金资助项目 ()

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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