能源工程Issue(6)：20-23,4.
a-Si:H薄膜的再结晶技术发展概述
Recrystallization technology of a-Si:H thin films
冯团辉 1卢景霄 1张宇翔 1郜小勇 1王海燕 1靳锐敏1
作者信息
- 1. 郑州大学,教育部材料物理重点实验室,河南,郑州,450052
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摘要
关键词
非晶硅薄膜/再结晶技术/多晶硅薄膜/多晶硅薄膜太阳电池分类
数理科学引用本文复制引用
冯团辉,卢景霄,张宇翔,郜小勇,王海燕,靳锐敏..a-Si:H薄膜的再结晶技术发展概述[J].能源工程,2004,(6):20-23,4.
