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分子束外延及溅射法制备Co/Cu多层膜结构与磁电阻的比较研究

赵宏武 别青山 杜军 鹿牧 眭云霞 翟宏如 夏慧

ACTA PHYSICA SINICAIssue(10):2047-2053,7.
ACTA PHYSICA SINICAIssue(10):2047-2053,7.

分子束外延及溅射法制备Co/Cu多层膜结构与磁电阻的比较研究

赵宏武 1别青山 2杜军 3鹿牧 3眭云霞 3翟宏如 3夏慧3

作者信息

  • 1. 南京大学固体微结构物理国家重点实验室
  • 2. 北京有色金属研究总院
  • 折叠

摘要

关键词

分子束外延/溅射/钴/铜膜/薄膜/磁电阻

分类

数理科学

引用本文复制引用

赵宏武,别青山,杜军,鹿牧,眭云霞,翟宏如,夏慧..分子束外延及溅射法制备Co/Cu多层膜结构与磁电阻的比较研究[J].ACTA PHYSICA SINICA,1997,(10):2047-2053,7.

ACTA PHYSICA SINICA

OA北大核心CSCD

1000-3290

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