机械科学与技术2004，Vol.23Issue(2)：206-208,3.
分子沉积(MD)膜表面形貌的测量及影响因素
Measurement of Topography for Molecular Deposition Films and its Influencing Factors
摘要
关键词
分子沉积(MD)膜/磺化酞菁铜(CuTspc)/表面形貌/分形/载荷/扫描速率分类
数理科学引用本文复制引用
高芒来,聂时春,张嗣伟..分子沉积(MD)膜表面形貌的测量及影响因素[J].机械科学与技术,2004,23(2):206-208,3.基金项目
国家自然科学基金项目(50175076)和重质油加工国家重点实验室开放课题(2002-05)资助 （50175076）
