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超深亚微米P+栅PMOSFET中NBTI效应及其机理研究

郝跃 韩晓亮 刘红侠

电子学报2003,Vol.31Issue(z1):2063-2065,3.
电子学报2003,Vol.31Issue(z1):2063-2065,3.

超深亚微米P+栅PMOSFET中NBTI效应及其机理研究

The Study on NBTI Mechanism and Its Effect on P + Gate PMOSFET

郝跃 1韩晓亮 1刘红侠1

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子研究所,陕西,西安,710071
  • 折叠

摘要

关键词

NBTI效应/PMOSFET/界面态/正氧化层固定电荷

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

郝跃,韩晓亮,刘红侠..超深亚微米P+栅PMOSFET中NBTI效应及其机理研究[J].电子学报,2003,31(z1):2063-2065,3.

基金项目

国家863高科技VLSI重大专项基金 ()

国家自然科学基金 ()

电子学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

0372-2112

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