山东建筑大学学报2009，Vol.24Issue(3)：212-214,3.
铒离子注入晶体硅的射程分布和离散研究
Measurement of the range distribution and straggling of Er ions implanted in Si crystal
摘要
关键词
离子注入/卢瑟福背散射技术/射程分布分类
数理科学引用本文复制引用
秦希峰,季燕菊,王凤翔,付刚,赵优美..铒离子注入晶体硅的射程分布和离散研究[J].山东建筑大学学报,2009,24(3):212-214,3.基金项目
山东省中青年科学家科研奖励基金项目(2006BSB01447) （2006BSB01447）
山东建筑大学校内基金项目(XN070109) （XN070109）
