材料科学与工程学报2006，Vol.24Issue(2)：212-214,3.
重掺硼直拉硅片中流动图形缺陷的显示
Delineation of Flow Pattern Defects in Heavily Boron-doped Czochralski Silicon Wafer
摘要
关键词
直拉单晶硅/重掺硼/FPD分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
方敏,杨德仁,马向阳,阙端麟..重掺硼直拉硅片中流动图形缺陷的显示[J].材料科学与工程学报,2006,24(2):212-214,3.基金项目
国家自然科学基金(50072019)和国家杰出青年基金(50225210)资助项目 （50072019）
