半导体学报2005，Vol.26Issue(11)：2133-2138,6.
渠道火花烧蚀法制备In2O3:Mo透明导电薄膜
Preparation of Molybdenum-Doped Indium Oxide Thin Films by Channel Spark Ablation
黄丽 1李喜峰 1张群 1缪维娜 1张莉 1章壮健 1华中一1
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关键词
In2O3:Mo/渠道火花烧蚀/功函数/紫外光电子谱分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
黄丽,李喜峰,张群,缪维娜,张莉,章壮健,华中一..渠道火花烧蚀法制备In2O3:Mo透明导电薄膜[J].半导体学报,2005,26(11):2133-2138,6.
