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衬底预非晶化对低能硼注入硅形成浅结的影响

卢志恒 李素杰 张朝明 罗晏 张荟星

半导体学报Issue(3)：215,1.
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半导体学报Issue(3)：215,1.

衬底预非晶化对低能硼注入硅形成浅结的影响

卢志恒 1李素杰 1张朝明 1罗晏 1张荟星1

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摘要

关键词

预非晶化/离子注入/浅结/硼/硅

分类

信息技术与安全科学

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卢志恒,李素杰,张朝明,罗晏,张荟星..衬底预非晶化对低能硼注入硅形成浅结的影响[J].半导体学报,1990,(3):215,1.

半导体学报

OACSCD

1674-4926

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