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非对称HALO结构的全耗尽SOI二维阈值电压解析模型

许剑 丁磊 韩郑生 钟传杰

电子器件2007,Vol.30Issue(6):2166-2169,2173,5.
电子器件2007,Vol.30Issue(6):2166-2169,2173,5.

非对称HALO结构的全耗尽SOI二维阈值电压解析模型

Analytical 2-D Threshold Voltage Model for Fully Depleted SOI MOSFET with Asymmetric HALO

许剑 1丁磊 1韩郑生 2钟传杰1

作者信息

  • 1. 江南大学信息工程学院,江苏,无锡,214000
  • 2. 中国科学院微电子研究所,北京,100029
  • 折叠

摘要

关键词

阈值电压/表面势/全耗尽SOI/HALO结构

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

许剑,丁磊,韩郑生,钟传杰..非对称HALO结构的全耗尽SOI二维阈值电压解析模型[J].电子器件,2007,30(6):2166-2169,2173,5.

电子器件

OACSTPCD

1005-9490

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