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液体喷射抛光技术材料去除机理的有限元分析

方慧 郭培基 余景池

光学精密工程2006,Vol.14Issue(2):218-223,6.
光学精密工程2006,Vol.14Issue(2):218-223,6.

液体喷射抛光技术材料去除机理的有限元分析

Analysis of material removal mechanism in fluid jet polishing by finite element method

方慧 1郭培基 1余景池1

作者信息

  • 1. 苏州大学,江苏省现代光学技术重点实验室,江苏,苏州,215006
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摘要

关键词

喷射抛光/有限元法/去除机理/冲击磨损

分类

化学化工

引用本文复制引用

方慧,郭培基,余景池..液体喷射抛光技术材料去除机理的有限元分析[J].光学精密工程,2006,14(2):218-223,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(No.60278011) (No.60278011)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

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