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氮化硅陶瓷层裂强度的研究

肖桂凤 唐志平 周昌国 胡晓军 蔡建

高压物理学报2005，Vol.19Issue(3)：219-224,6.
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高压物理学报2005，Vol.19Issue(3)：219-224,6.

氮化硅陶瓷层裂强度的研究

A Study on the Spallation Behavior of Silicon Nitride

肖桂凤 1唐志平 2周昌国 1胡晓军 2蔡建2

作者信息

  • 1. 解放军炮兵学院基础部实验中心,安徽,合肥,230031
  • 2. 中国科学技术大学,中国科学院材料力学行为和设计重点实验室,安徽,合肥,230026
  • 折叠

摘要

关键词

氮化硅/层裂/粒子速度计/Hugoniot冲击绝热线

分类

数理科学

引用本文复制引用

肖桂凤,唐志平,周昌国,胡晓军,蔡建..氮化硅陶瓷层裂强度的研究[J].高压物理学报,2005,19(3):219-224,6.

基金项目

国家重大基础研究项目(J1500E002) （J1500E002）

高压物理学报

OA北大核心CSCD

1000-5773

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