航空材料学报2004，Vol.24Issue(4)：22-26,5.
CVD过程中温度对SiC涂层沉积速率及组织结构的影响
The effects of deposition temperature on the depositon rates and structures of CVD SiC coatings
摘要
关键词
沉积温度/CVD/SiC/沉积速率/结构分类
通用工业技术引用本文复制引用
刘荣军,张长瑞,刘晓阳,周新贵,曹英斌..CVD过程中温度对SiC涂层沉积速率及组织结构的影响[J].航空材料学报,2004,24(4):22-26,5.基金项目
国防预研基金(项目编号:41312011002) （项目编号:41312011002）
