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半导体学报
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SOI上PZT铁电薄膜的脉冲准分子激光沉积及其快速退火研究
SOI上PZT铁电薄膜的脉冲准分子激光沉积及其快速退火研究
郑立荣
陈逸清
张顺开
林成鲁
邹世昌
半导体学报
Issue(3):223,1.
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半导体学报
Issue(3)
:223,1.
SOI上PZT铁电薄膜的脉冲准分子激光沉积及其快速退火研究
郑立荣
1
陈逸清
1
张顺开
2
林成鲁
2
邹世昌
2
作者信息
1.
中国科学院上海冶金研究所信息功能材料国家重点实验室
折叠
摘要
关键词
SOI
/
准分子激光
/
沉积
/
退火
/
铁电薄膜
分类
信息技术与安全科学
引用本文
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郑立荣,陈逸清,张顺开,林成鲁,邹世昌..SOI上PZT铁电薄膜的脉冲准分子激光沉积及其快速退火研究[J].半导体学报,1996,(3):223,1.
半导体学报
OA
北大核心
CSCD
ISSN:
1674-4926
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