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同步辐射激发直接干化学刻蚀

韩正甫 张新夷

物理学进展2000，Vol.20Issue(1)：22-34,13.
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物理学进展2000，Vol.20Issue(1)：22-34,13.

同步辐射激发直接干化学刻蚀

SYNCHROTRON RADIATION EXCITED PHOTOCHEMICAL ETCHING

韩正甫 1张新夷1

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230026
  • 折叠

摘要

关键词

光刻/同步辐射/直接刻蚀/光化学反应

分类

数理科学

引用本文复制引用

韩正甫,张新夷..同步辐射激发直接干化学刻蚀[J].物理学进展,2000,20(1):22-34,13.

物理学进展

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-0542

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