| 注册
首页|期刊导航|光学精密工程|窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅

窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅

吴文娟 王占山 秦树基 王风丽 王洪昌 张众 陈玲燕 徐向东 付绍军

光学精密工程2004,Vol.12Issue(2):226-230,5.
光学精密工程2004,Vol.12Issue(2):226-230,5.

窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅

Etching of multilayer grating using a narrow spectral band X-ray

吴文娟 1王占山 1秦树基 1王风丽 1王洪昌 1张众 1陈玲燕 1徐向东 2付绍军2

作者信息

  • 1. 同济大学,精密光学工程技术研究所物理系,上海,200092
  • 2. 中国科技大学,同步辐射国家重点实验室,安徽,合肥,230029
  • 折叠

摘要

关键词

多层膜/光栅/带宽/刻蚀/光谱分辨率/刻蚀比

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

吴文娟,王占山,秦树基,王风丽,王洪昌,张众,陈玲燕,徐向东,付绍军..窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅[J].光学精密工程,2004,12(2):226-230,5.

基金项目

国家自然科学基金资助课题(No.60378021) (No.60378021)

国家863-804-7-5资助课题 ()

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文