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电子学报
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钛溅射和硅化钛形成在硅中引进深能级的研究
钛溅射和硅化钛形成在硅中引进深能级的研究
卢励吾
周洁
武国英
电子学报
Issue(8):23,1.
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电子学报
Issue(8)
:23,1.
钛溅射和硅化钛形成在硅中引进深能级的研究
卢励吾
1
周洁
1
武国英
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摘要
关键词
硅化物
/
溅射
/
深能级
/
瞬态谱
分类
数理科学
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卢励吾,周洁,武国英..钛溅射和硅化钛形成在硅中引进深能级的研究[J].电子学报,1993,(8):23,1.
电子学报
OA
北大核心
CSCD
ISSN:
0372-2112
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