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PECVD介质膜性能研究
PECVD介质膜性能研究
崔翔天
楚振生
高鹏涛
王志军
常威
郑喜凤
孟宪信
发光学报
Issue(3)：230-234,5.
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发光学报
Issue(3)
：230-234,5.
PECVD介质膜性能研究
崔翔天
1
楚振生
1
高鹏涛
2
王志军
2
常威
2
郑喜凤
2
孟宪信
2
作者信息
1.
中国科学院长春物理研究所
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摘要
关键词
PECVD
/
氮化硅
/
薄膜
/
介电性质
分类
数理科学
引用本文
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崔翔天,楚振生,高鹏涛,王志军,常威,郑喜凤,孟宪信..PECVD介质膜性能研究[J].发光学报,1996,(3):230-234,5.
发光学报
OA
北大核心
CSCD
ISSN：
1000-7032
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