物理学报2002，Vol.51Issue(10)：2325-2328,4.
Co/Cu(111)薄膜生长和退火过程中的扩散
Diffusion during growth and annealing of Co/Cu(111) films
苏润 1刘凤琴 1钱海杰 1奎热西1
作者信息
- 1. 中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室,北京,100039
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摘要
关键词
表面扩散和界面混合物形成/固体表面能/表面态和能带结构分类
数理科学引用本文复制引用
苏润,刘凤琴,钱海杰,奎热西..Co/Cu(111)薄膜生长和退火过程中的扩散[J].物理学报,2002,51(10):2325-2328,4.
