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合肥同步光源增加光刻基片曝光面积方法研究

陈龙康 胡葆善

深圳大学学报（理工版）2001，Vol.18Issue(2)：23-27,5.
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深圳大学学报（理工版）2001，Vol.18Issue(2)：23-27,5.

合肥同步光源增加光刻基片曝光面积方法研究

Enlarging the Exposure Area in X-ray Lithography for HLS

陈龙康 1胡葆善1

作者信息

  • 1. 深圳大学理学院,
  • 折叠

摘要

关键词

曝光面积/闭轨畸变/水平磁场

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

陈龙康,胡葆善..合肥同步光源增加光刻基片曝光面积方法研究[J].深圳大学学报（理工版）,2001,18(2):23-27,5.

深圳大学学报（理工版）

OACSCD

1000-2618

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