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微波等离子体化学气相沉积合成掺氮金刚石薄膜的缺陷和结构特征及其生长行为

刘燕燕 E. Bauer-Grosse 张庆瑜

物理学报2007，Vol.56Issue(4)：2359-2368,10.

Structure and growth behavior of low N-doped diamond film by microwave plasma assisted chemical vapor deposition

刘燕燕 ¹E. Bauer-Grosse ²张庆瑜²

作者信息

1. 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024
2. Laboratoire de Science et Génie des Surfaces, Ecole des Mines, Nancy 54040, France
折叠

金刚石/结构表征/透射电子显微镜/多型金刚石

化学化工

刘燕燕,E. Bauer-Grosse,张庆瑜..微波等离子体化学气相沉积合成掺氮金刚石薄膜的缺陷和结构特征及其生长行为[J].物理学报,2007,56(4):2359-2368,10.

中法先进研究计划(批准号:MX01-02)和法国国际科学合作计划资助的课题. （批准号:MX01-02）

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

ISSN：1000-3290

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