物理学报2007，Vol.56Issue(4)：2369-2376,8.
Si(001)基片上反应射频磁控溅射 ZnO薄膜的两步生长方法
Two-step growth of ZnO films deposited by reactive radio-frequency magnetron sputtering on Si(001) substrate
摘要
关键词
ZnO薄膜/反应射频磁控溅射/两步生长/形貌分析分类
化学化工引用本文复制引用
谷建峰,刘志文,刘明,付伟佳,马春雨,张庆瑜..Si(001)基片上反应射频磁控溅射 ZnO薄膜的两步生长方法[J].物理学报,2007,56(4):2369-2376,8.基金项目
国家自然科学基金(批准号:10605009)资助的课题. （批准号:10605009）
