人工晶体学报2004，Vol.33Issue(2)：238-240,3.
工艺参数对CVD ZnS沉积速率的影响
Effect of Technical Parameters on Deposition Rate of CVD ZnS
杨曜源 1蔡以超 1东艳苹 1张力强 1王向阳 1肖红涛 1田鸿昌 1李卫 1郝永亮 1方珍意1
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摘要
关键词
红外材料/ZnS/CVD/沉积速率分类
数理科学引用本文复制引用
杨曜源,蔡以超,东艳苹,张力强,王向阳,肖红涛,田鸿昌,李卫,郝永亮,方珍意..工艺参数对CVD ZnS沉积速率的影响[J].人工晶体学报,2004,33(2):238-240,3.
