电子器件2009，Vol.32Issue(2)：241-243,248,4.
磁控溅射法制备ITO薄膜的结构及光电性能
Microstructure and Optoelectrical Performance of ITO Film by DC Magnetron Sputtering
摘要
关键词
ITO薄膜/直流磁控溅射/透光率/微观结构/光电性能分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
桂太龙,汪钢,张秀芳,梁栋..磁控溅射法制备ITO薄膜的结构及光电性能[J].电子器件,2009,32(2):241-243,248,4.基金项目
黑龙江省自然科技基金资助(E200809) （E200809）
黑龙江省教育厅科技项目资助(11511091) （11511091）
