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非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用

张葆 洪永丰 史光辉

光学精密工程2008,Vol.16Issue(12):2421-2428,8.
光学精密工程2008,Vol.16Issue(12):2421-2428,8.

非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用

Application of non-uniformity correction to stray radiation suppression of infrared optical system

张葆 1洪永丰 1史光辉2

作者信息

  • 1. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春,130033
  • 2. 中国科学院研究生院,北京,100039
  • 折叠

摘要

关键词

红外辐射/杂散辐射/冷反射/100%冷阑效率/非均匀性校正

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

张葆,洪永丰,史光辉..非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用[J].光学精密工程,2008,16(12):2421-2428,8.

基金项目

国防科技预研基金资助项目(No.1040603) (No.1040603)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

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