纳米电子束曝光OA北大核心CSCDCSTPCD
Nano-Level Electron Beam Lithography
JEOL JBX-5000LS是矢量扫描的电子束曝光机.系统采用LaB6灯丝,可以工作在25kV和50kV的加速电压下.对该系统的分辨率、稳定性、场拼接和套刻精度进行了系列研究,得到了分辨率为30nm的图形,图形的套刻精度也优于40nm.
The JEOL JBX-5000LS is a vector type machine.The system hardware features an ion-pumped column,a LaB6 electron emitter,25kV and 50kV accelerating voltage,and a turbo-pumped sample chamber.The resolution,stability,stitching and overlay of this system are evaluated.The system can write complex patterns at dimensions down to 30nm.The demonstrated overlay accuracy of this system is better than 40nm.
刘明;陈宝钦;王云翔;张建宏
中国科学院微电子中心,北京,100029中国科学院微电子中心,北京,100029中国科学院微电子中心,北京,100029中国科学院微电子中心,北京,100029
电子信息工程
电子束曝光系统分辨率套刻精度
electron beam lithography systemresolutionoverlay accuracy
《半导体学报》 2003 (1)
纳米级电子束直写曝光的基础工艺研究
24-28,5
国家自然科学基金资助项目(批准号:69906006)
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