北京科技大学学报2001，Vol.23Issue(3)：243-245,3.
工艺参数对Ni81Fe19薄膜磁性及微结构影响
Effect of Processing Parameters on Magnetism and Microstructure of Ni81Fe19 Film
赵洪辰 1于广华 1金成元 2苏世漳 1朱逢吾1
作者信息
- 1. 北京科技大学材料科学与工程学院,
- 2. 金亨稷师范大学物理系,朝鲜民主主义人民共和国
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摘要
关键词
NiFe薄膜/各向异性磁电阻/表面粗糙度/晶粒尺寸分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
赵洪辰,于广华,金成元,苏世漳,朱逢吾..工艺参数对Ni81Fe19薄膜磁性及微结构影响[J].北京科技大学学报,2001,23(3):243-245,3.
