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恒流应力下E2PROM隧道氧化层的退化特性研究

李蕾蕾 刘红侠 于宗光 郝跃

物理学报2006,Vol.55Issue(5):2459-2463,5.
物理学报2006,Vol.55Issue(5):2459-2463,5.

恒流应力下E2PROM隧道氧化层的退化特性研究

Degradation of tunnel oxide in E2PROM under constant current stress

李蕾蕾 1刘红侠 1于宗光 1郝跃1

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071
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摘要

关键词

E2PROM/隧道氧化层/退化/恒流应力

分类

数理科学

引用本文复制引用

李蕾蕾,刘红侠,于宗光,郝跃..恒流应力下E2PROM隧道氧化层的退化特性研究[J].物理学报,2006,55(5):2459-2463,5.

基金项目

国家高技术研究发展计划(批准号:2004AA1Z1070)和国家自然科学基金(批准号:60376024)资助的课题. (批准号:2004AA1Z1070)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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