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大电流密度碳纳米管阴极的生长及场发射性能研究

娄朝刚 朱春晖 张晓兵 雷威

液晶与显示2004,Vol.19Issue(4):249-252,4.
液晶与显示2004,Vol.19Issue(4):249-252,4.

大电流密度碳纳米管阴极的生长及场发射性能研究

CVD Growth and Field-emission of Carbon Nanotubes as a Large Current Density Cathode

娄朝刚 1朱春晖 1张晓兵 1雷威1

作者信息

  • 1. 东南大学,电子工程系,江苏,南京,210096
  • 折叠

摘要

关键词

碳纳米管/场发射/CVD

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

娄朝刚,朱春晖,张晓兵,雷威..大电流密度碳纳米管阴极的生长及场发射性能研究[J].液晶与显示,2004,19(4):249-252,4.

基金项目

"973"国家重大基础研究计划资助项目(No.2003CB314706) (No.2003CB314706)

教育部博士点基金资助项目(No.20030286003) (No.20030286003)

国家大功率微波重点实验室基金资助项目 ()

东南大学科技基金资助项目(No.9206001270,No.9206001271) (No.9206001270,No.9206001271)

液晶与显示

OA北大核心CSCDCSTPCD

1007-2780

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