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光刻机主基板的动态特性分析及优化

陈学东 郭合忠 严天宏 余显忠

中国机械工程2007，Vol.18Issue(21)：2524-2527,4.
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中国机械工程2007，Vol.18Issue(21)：2524-2527,4.

光刻机主基板的动态特性分析及优化

Dynamics Analysis of the Main-plate of Stepping-scanning Lithography and Optimization

陈学东 1郭合忠 1严天宏 2余显忠1

作者信息

  • 1. 华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室,武汉,430074
  • 2. 上海微电子装备有限公司国家光刻设备工程技术研究中心,上海,201203
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摘要

关键词

主基板/有限元分析/模态试验/优化设计

分类

机械制造

引用本文复制引用

陈学东,郭合忠,严天宏,余显忠..光刻机主基板的动态特性分析及优化[J].中国机械工程,2007,18(21):2524-2527,4.

基金项目

国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716206) （2003CB716206）

国家自然科学基金资助项目(50605025) （50605025）

中国机械工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-132X

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