半导体学报2000，Vol.21Issue(3)：260-263,4.
用氧化多孔硅方法制备厚的Si02膜及其微观分析
Growth and Microanalysis of Thick Oxidized Porous Silicon
摘要
关键词
阳极氧化法/厚二氧化硅/硅基二氧化硅光波导器件引用本文复制引用
欧海燕,杨沁清,雷红兵,王红杰,余金中,王启明,胡雄伟..用氧化多孔硅方法制备厚的Si02膜及其微观分析[J].半导体学报,2000,21(3):260-263,4.基金项目
国家自然科学基金资助项目，项目号：69896260,69889701[Project Supported by National Natural Science Founda tion of China Under Grant No. 69896260 and 69889701]. （）
