光学精密工程2002，Vol.10Issue(3)：266-270,5.
SU-8胶光刻工艺研究
Research on SU-8 resist photolithography process
张立国 1陈迪 1杨帆 1李以贵1
作者信息
- 1. 上海交通大学,微纳米科学技术研究院,上海,200030
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摘要
关键词
SU-8胶/高深宽比/光刻分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
张立国,陈迪,杨帆,李以贵..SU-8胶光刻工艺研究[J].光学精密工程,2002,10(3):266-270,5.基金项目
国家自然科学基金资助 (No.59875060) （No.59875060）
