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介质靶表面的充电效应对等离子体浸没离子注入过程中鞘层特性的影响

李雪春 王友年

物理学报2004,Vol.53Issue(8):2666-2669,4.
物理学报2004,Vol.53Issue(8):2666-2669,4.

介质靶表面的充电效应对等离子体浸没离子注入过程中鞘层特性的影响

Effects of charging at dielectric surfaces on the characteristics of the sheath for plasma immersion ion implantation

李雪春 1王友年1

作者信息

  • 1. 大连理工大学物理系,三束材料改性国家重点实验室,大连,116024
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摘要

关键词

等离子体浸没离子注入/脉冲鞘层/绝缘介质/充电效应

分类

数理科学

引用本文复制引用

李雪春,王友年..介质靶表面的充电效应对等离子体浸没离子注入过程中鞘层特性的影响[J].物理学报,2004,53(8):2666-2669,4.

基金项目

教育部"跨世纪优秀人才培养计划"基金资助的课题. ()

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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