原子能科学技术2007，Vol.41Issue(3)：268-272,5.
脉冲偏压对贫铀表面磁控溅射离子镀铝结合强度的影响
Effect of Pulse Bias Voltage on Adhesive Strength of Magnetron Sputtering Ion Plated Al Coating on Depleted Uranium Surface
摘要
关键词
贫铀/铝镀层/脉冲偏压/结合强度分类
能源科技引用本文复制引用
王庆富,鲜晓斌,刘柯钊,刘清和..脉冲偏压对贫铀表面磁控溅射离子镀铝结合强度的影响[J].原子能科学技术,2007,41(3):268-272,5.基金项目
中国工程物理研究院基金资助项目(2005R0806) （2005R0806）
