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铜在离子选择性涂层下腐蚀行为的阻抗谱研究

王周成

电化学Issue(3)：271,1.
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电化学Issue(3)：271,1.

铜在离子选择性涂层下腐蚀行为的阻抗谱研究

王周成1

作者信息

  • 1. 固体表面物理国家重点实验室;固体表面物理国家重点实验室
  • 折叠

摘要

关键词

离子选择性涂层/铜/腐蚀行为/防蚀性能/EIS

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

王周成..铜在离子选择性涂层下腐蚀行为的阻抗谱研究[J].电化学,1997,(3):271,1.

电化学

OACSCD

1006-3471

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