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干法刻蚀和湿法刻蚀制备硅微尖的比较

王维彪金长春赵海峰王永珍殷秀华范希武梁静秋姚劲松

发光学报Issue(3)：272-274,3.

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发光学报Issue(3)：272-274,3.

干法刻蚀和湿法刻蚀制备硅微尖的比较

王维彪 ¹金长春 ¹赵海峰 ²王永珍 ²殷秀华 ²范希武 ²梁静秋 ²姚劲松²

作者信息

1. 中国科学院长春物理研究所
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摘要

关键词

干法/刻蚀/湿法/微电子器件

分类

信息技术与安全科学

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王维彪,金长春,赵海峰,王永珍,殷秀华,范希武,梁静秋,姚劲松..干法刻蚀和湿法刻蚀制备硅微尖的比较[J].发光学报,1998,(3):272-274,3.

发光学报

OA北大核心CSCD

ISSN：1000-7032

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