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干法刻蚀和湿法刻蚀制备硅微尖的比较

王维彪 金长春 赵海峰 王永珍 殷秀华 范希武 梁静秋 姚劲松

发光学报Issue(3):272-274,3.
发光学报Issue(3):272-274,3.

干法刻蚀和湿法刻蚀制备硅微尖的比较

王维彪 1金长春 1赵海峰 2王永珍 2殷秀华 2范希武 2梁静秋 2姚劲松2

作者信息

  • 1. 中国科学院长春物理研究所
  • 折叠

摘要

关键词

干法/刻蚀/湿法/微电子器件

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王维彪,金长春,赵海峰,王永珍,殷秀华,范希武,梁静秋,姚劲松..干法刻蚀和湿法刻蚀制备硅微尖的比较[J].发光学报,1998,(3):272-274,3.

发光学报

OA北大核心CSCD

1000-7032

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