表面技术2002，Vol.31Issue(6)：27-29,3.
脉冲真空电弧离子镀沉积速率的研究
Study on the Deposition Ratio of Pulsed Vacuum Arc Ion Deposition
蔡长龙 1王季梅 1弥谦 2杭凌侠 2严一心 2徐均琪2
作者信息
- 1. 西安交通大学电气工程学院,陕西,西安,710049
- 2. 西安工业学院光电科学与工程系,陕西,西安,710032
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摘要
关键词
脉冲电弧/沉积速率/类金刚石薄膜分类
化学化工引用本文复制引用
蔡长龙,王季梅,弥谦,杭凌侠,严一心,徐均琪..脉冲真空电弧离子镀沉积速率的研究[J].表面技术,2002,31(6):27-29,3.
